曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题;
2、图形转印技术单层、多层套印精度高;
3、雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用图形转印技术,良率较高;
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显;
6、较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率;
曝光后,聚合反应还要持续一段时间,为保证工艺的稳定性,曝光后不要立即揭去聚酯膜,以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。油墨喷涂
通过控制喷嘴的流量和传输速度实现油墨的均匀喷涂,无论两面曲四面曲皆能达到表面油墨均匀细腻,下图这款设备有效加工区宽度达500mm,方式为极速雾化式喷涂。
普通的明矾和。基本原则大体是:金属被蚀刻时先要清洗,之后图上一层耐酸物质。曝光时间,s。
从上式可以看出,曝光总能量e随光强度j和曝光时间t而变化。曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光,对于空白的蚀刻钢片感光,钢片感光的油墨发生聚合反应,然后通过显影机,蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化,
底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以,底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。曝光不足,导致单体聚合不,那么在显影过程中,会使的胶膜变软,线条不清晰,色泽暗淡,脱胶。原文链接:http://www.yf163.com/cp/3780.html,转载和复制请保留此链接。
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