氧化铝抛光粉(VK-L30F)在蓝宝石衬底抛光中的应用
目前, 在蓝宝石的CMP 工艺中, 常用的磨料主要包括金刚石、二氧化硅溶胶、氧化铈和氧化铝等磨料。
实验数据表明,a-氧化铝抛光粉(VK-L30F,0.3um,球型)在蓝宝石抛光过程中的优势逐渐明显。
金刚石只用于传统的机械抛光,其硬度(莫氏10)比蓝宝石(莫氏9)硬度高,容易产生划伤,蓝宝石表面损伤度高,良率低。氧化铝(VK-L30F)的硬度与蓝宝石相当,颗粒球型,抛光速率高,良率高,是比较理想的抛光材料。而SiO2硬度(莫氏硬度7.5)比蓝宝石低,抛光速率比氧化铝抛光粉慢很多,抛光比较耗时。
在抛光C-平面蓝宝石衬底时,a-氧化铝抛光粉(VK-L30F,0.3um)制成的研磨液的抛光性能(去除速率和表面质量等)优于其他磨料,具体表现如下:
1,形成的水化层增加,抛光过程中,在蓝宝石基底上持续形成水化层,它比基底层软,该层的形成有利于材料的去除,并产生高质量表面。
2,表面质量改善,a-氧化铝与基底蓝宝石的硬度一样,因此,磨料划伤蓝宝石的可能性很小。
3,去除速率增加,a-氧化铝磨料经历了与基底蓝宝石一样的表面水化,在基底宝石与磨料水化层之间的化学机械作用加速了材料去除,当磨料和基底蓝宝石的表面在抛光压力下靠在一起并剪切时,就相互粘附,进一步的剪切就会使粒子撕开键合的水化层,通过粒子的前边沿促进材料去除。表面粗糙度能小于0.2nm.
4,氧化铝抛光液在循环过程中稳定性更好,二氧化硅抛光液在使用过程中温度严格控制,以防止结块,但氧化铝研磨液就比较稳定,也显示了很好的洁净度。
实验1:采用氧化铝抛光粉对蓝宝石衬底进行抛光,抛光液的pH为10时抛光效果好,表面粗糙度RMS可达0.2nm。抛光压力在0. 12Mpa 至0. 15Mpa,抛光液浓度为10%时较佳。浓度越高,抛光速率越快。
目前很多蓝宝
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