主要技术指标：
测量范围（VIS）：15nm—100μm
测量重复性（RMS）：0.086nm
测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm
测量层数：大于3层
使用光源：卤素灯；
入射角度：90°
测试材料：透明或半透明薄膜材料；
光斑尺寸：20μm—3mm（可选）
测量时间：100ms—4ms；
通信接口：USB2.0
产品特点：
采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。
薄膜测厚仪测试数据：
薄膜测厚仪设备组成：
测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。
http://www.zwscience.com/Products-35707688.html
https://www.chem17.com/st476407/erlist_2228784.html